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Visualizing Individual Nitrogen Dopants in Monolayer Graphene

机译:可视化单层石墨烯中的单个氮掺杂剂

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摘要

In monolayer graphene, substitutional doping during growth can be used toalter its electronic properties. We used scanning tunneling microscopy (STM),Raman spectroscopy, x-ray spectroscopy, and first principles calculations tocharacterize individual nitrogen dopants in monolayer graphene grown on acopper substrate. Individual nitrogen atoms were incorporated as graphiticdopants, and a fraction of the extra electron on each nitrogen atom wasdelocalized into the graphene lattice. The electronic structure ofnitrogen-doped graphene was strongly modified only within a few latticespacings of the site of the nitrogen dopant. These findings show that chemicaldoping is a promising route to achieving high-quality graphene films with alarge carrier concentration.
机译:在单层石墨烯中,可以使用生长过程中的替代掺杂来改变其电子性能。我们使用扫描隧道显微镜(STM),拉曼光谱,X射线光谱和第一性原理计算来表征在铜基衬底上生长的单层石墨烯中的单个氮掺杂剂。各个氮原子作为石墨掺杂剂掺入,每个氮原子上的一部分多余电子被离域到石墨烯晶格中。氮掺杂石墨烯的电子结构仅在氮掺杂剂位点的几个晶格间距内被强烈修饰。这些发现表明,化学掺杂是获得具有大载流子浓度的高质量石墨烯薄膜的有前途的途径。

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